當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > > CVD、PECVD設(shè)備 > OTF-1200X-50-4CLV-PE4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)
簡(jiǎn)要描述:4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng),因而這種CVD稱(chēng)為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD), 內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率,同時(shí)也可以延長(zhǎng)儀器的使用壽命。
產(chǎn)品分類(lèi)
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4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)
實(shí)驗(yàn)機(jī)理 |
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產(chǎn)品特點(diǎn) |
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開(kāi)啟式管式爐 |
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等離子射頻電源 |
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真空泵和閥門(mén) |
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質(zhì)量流量計(jì) |
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4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)細(xì)節(jié)圖展示 |
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外形尺寸 |
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操作視頻 | 多通道質(zhì)量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng) | ||||
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期相關(guān)耗材除外,如加熱元件,密封圈等易耗件 | ||||
質(zhì)量認(rèn)證 | CE認(rèn)證 | ||||
國(guó)家 | 名稱(chēng):可組合式等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置 編號(hào):ZL-2011-2-0355777.1 尊重創(chuàng)新、鄙視抄襲、侵權(quán)必究 |
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