簡要描述:OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成??膳c準分子激光器配合,進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。
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詳細介紹
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐,此款設備主要包括混氣裝置,加熱爐,基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成??膳c準分子激光器配合,進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜,而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材,可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設備特別適合制作多元化合物薄膜。
技術參數(shù)
產品特點 |
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加熱爐(對基片加熱) |
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腔體 |
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真空度 |
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窗口
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壓力控制系統(tǒng) |
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混氣系統(tǒng) |
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等離子射頻電源(可選購) |
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質保期 | 一年質保期,終生維護(不包括密封圈、石英腔體和加熱元件) |
儀器尺寸 | 1300mm*1260mm*820mm |
質量認證 |
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